(1)拋光液對環(huán)境的影響。化學機械拋光液中的化學成分，如氨、酸等有毒成分對環(huán)境和人體的傷害很大，為此，在進一步研究拋光液制備工藝的同時，拋光液的循環(huán)利用也要進一步完善，做到經(jīng)濟發(fā)展與環(huán)境保護相協(xié)調。例如，水性體系的拋光液綠色環(huán)保、散熱快等。

　 　(2)化學機械拋光液磨料粒子的分散問題。拋光液中使用的多為納米粒子，納米粒子的比表面積較大，表面能較高，極易發(fā)生團聚，目前國內外常用超聲波、機 械攪拌、表面處理等機械化學方法對納米磨料粒子進行分散 ，但是往往達不到效果，因此，納米磨料粒子的分散穩(wěn)定性需要進一步的研究。本課題組正在通過使用納濾膜或微濾膜控制磨料粒子分布的寬窄來制備精細化的拋光 液。

　　(3)拋光液的適用性。目前所用的拋光液沒有表明針對某一工件適用，因此，針對不同材料開發(fā)專門使用的化學機械拋光液需要進一步的研究。例如，目前富士康對ipHone、 ipad 等外殼進行光學鏡面模拋光，以及對半導體晶片的拋光，都需要使用專門特定的拋光液。